Intel построит новый завод в Аризоне
Компания Intel объявила о строительстве новой производственной линии в Чэндлере, штат Аризона, по выпуску 300-миллиметровых плат. Новый завод, получивший обозначение Fab 32, будет выпускать новейшие модели процессоров по 45-нанометровой технологии начиная со второй половины 2007 г. Строительство объекта, оцененного в $3 млрд., решено начать немедленно.
По завершению строительства у Intel будет шесть объектов по выпуску 300-миллиметровых плат. С вводом в производство Fab 32 в Аризоне появятся дополнительно 1 тыс. рабочих мест. В строительстве объекта примут участие более 3 тыс. рабочих.
В настоящее время у Intel имеется четыре завода по производству 300-миллиметровых плат, чьи объемы выпуска эквивалентны производственным мощностям восьми заводов, выпускающих 200-миллиметровые платы. Данные заводы расположены в Орегоне, Ирландии и Нью-Мексике. В настоящее время ведется строительство дополнительного Fab 12 по выпуску 300-миллиметровых плат, также расположенного в Аризоне. Ввод в производство запланировано в этом году. Также завершается строительство Афи 24-2 в Ирландии, ввод в производство запланировано в 1 квартале следующего года.
Выпуск 300-миллиметровых плат значительно увеличивает объемы производства полупроводников с меньшей себестоимостью, по сравнению с 200-миллиметровыми платами. Количество кристаллов, получаемых из 300-мм плат, увеличилось на 240%. Также при производстве 300-мм плат энергии расходуется на 40% меньше.
Отдельной статьей Intel отметила, что намерена вложить $105 млн. в проект по переоборудованию незадействованной фабрики в Нью-Мексико в дополнительный испытательный полигон.
По завершению строительства у Intel будет шесть объектов по выпуску 300-миллиметровых плат. С вводом в производство Fab 32 в Аризоне появятся дополнительно 1 тыс. рабочих мест. В строительстве объекта примут участие более 3 тыс. рабочих.
В настоящее время у Intel имеется четыре завода по производству 300-миллиметровых плат, чьи объемы выпуска эквивалентны производственным мощностям восьми заводов, выпускающих 200-миллиметровые платы. Данные заводы расположены в Орегоне, Ирландии и Нью-Мексике. В настоящее время ведется строительство дополнительного Fab 12 по выпуску 300-миллиметровых плат, также расположенного в Аризоне. Ввод в производство запланировано в этом году. Также завершается строительство Афи 24-2 в Ирландии, ввод в производство запланировано в 1 квартале следующего года.
Выпуск 300-миллиметровых плат значительно увеличивает объемы производства полупроводников с меньшей себестоимостью, по сравнению с 200-миллиметровыми платами. Количество кристаллов, получаемых из 300-мм плат, увеличилось на 240%. Также при производстве 300-мм плат энергии расходуется на 40% меньше.
Отдельной статьей Intel отметила, что намерена вложить $105 млн. в проект по переоборудованию незадействованной фабрики в Нью-Мексико в дополнительный испытательный полигон.
Ещё новости по теме:
18:20