IBM и Toppan разработают фотомаски для изготовления 45-нанометровых чипов

Понедельник, 23 мая 2005 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Как сообщили представители IBM, компания заключила соглашение с японской компанией Toppan Printing о совместной разработке фотомасок для изготовления чипов нового поколения по 45-нанотехнологии.

В данный проект обе компании вкладывают около $200 млн. Основные работы будут проводиться на производственных объектах IBM в США.

Обе компании, объединяя свои достижения в данной области, планируют разработать 45-нанотехнологию производства фотомасок к середине 2007 г.

В дальнейшем Toppan перенесет совместно разработанную технологию на свои заводы и наладит собственную производственную систему.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 659
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Rating@Mail.ru