Первые 22-нанометровые микросхемы представлены на Intel Developer Forum: детали и факты

Среда, 23 сентября 2009 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

С 22 по 24 сентября в Сан-Франциско проходит Форум Intel для разработчиков (Intel Developer Forum, IDF). Сегодня генеральный директор и президент корпорации Intel Пол Отеллини (Paul Otellini) продемонстрировал первые образцы микросхем, изготовленных согласно нормам 22-нм технологического процесса. Intel продолжает доказывать справедливость закона Мура и претворять его в жизнь, предоставляя пользователям новые преимущества.


В чипах, анонсированных спустя два года после освоения 32-нм технологического процесса, реализовано третье поколение технологии Hi-K с металлическим затвором. Новая разработка в очередной раз подтвердила, что закон Мура благополучно перешагнул условный рубеж, за которым, по мнению экспертов, полупроводниковая промышленность должна была бы столкнуться с неразрешимыми проблемами.


Вот некоторые интересные факты, оглашенные на Intel Developer Forum:Работоспособность 22-нм технологии, пригодность нового производственного процесса и надежность продуктов тестируются на модулях памяти SRAM. Только после достижения успеха с этими изделиями по новой технологии начинают выпускаться процессоры нового поколенияВ настоящее время Intel работает над освоением 22-нм технологии при массовом производстве микросхем и намерена воплотить свою стратегию выпуска продукции «тик-так» в следующем поколении решений22-нм тестовые микросхемы представляют собой память SRAM и логические модулиSRAM-ячейки размером 0,108 и 0,092 мкм2 функционируют в составе массивов по 364 млн бит. Ячейка площадью 0,108 мкм2 оптимизирована для работы в низковольтной среде, а ячейка площадью 0,092 мкм2 является самой миниатюрной из известных сегодня ячеек SRAMНа образце размером с ноготь человека размещено 2,9 млрд транзисторов при плотности примерно вдвое выше, чем в чипах, изготовленных в соответствии с 32-нм технологией22-нм элементы формируются при литографии путем экспонирования маски светом длиной волны 193 нм - это очередное подтверждение талантов специалистов IntelОсвоение 22-нм технологии позволяет продолжить воплощать в жизнь предсказанные законом Мура принципы: уменьшение размеров транзисторов, увеличение производительности процессоров в расчете на каждый ватт потребляемой мощности и сокращение себестоимости чипов

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 788
Рубрика: Hi-Tech


Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Апрель 2004: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30