Разработана технология плазмонной литографии

В Калифорнийском университете в Беркли разработана технология так называемой «плазмонной» литографии, позволяющая создавать более миниатюрные микроизделия, нежели это возможно ныне.

Новая методика позволяет создавать линейные микроструктуры характерным размером 80 нм со скоростью до 12 м/с. Имеется значительный потенциал дальнейшего совершенствования системы и расширения ее характеристик. В частности, полагают разработчики, характерный размер строящегося с помощью такой системы «рисунка» может быть доведен до 10 или до 5 нм.

Более подробная информация о новой технологии литографии будет представлена на портале Исследования и разработки – R&D.CNews.