Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 369
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

18: 40
Соцсеть ВКонтакте восстановила работу |
18: 00
Водоблок EK-FB GA X399 Gaming RGB Monoblock предназначен для системных плат Gigabyte X399 Aorus Gaming 7 и X399 Designare EX |
18: 00
Магазин Google Play Store заработает в России в 2018 году |
17: 20
Ubuntu планирует следить за пользователями, пока те не возразят |
17: 00
ВКонтакте перестал работать |
17: 00
Apple увеличит экран в iPhone XI |
16: 40
Таймлайн: Buglance |
18: 20
Самая высокая волна в открытом океане |
18: 00
Как предсказать мощные вспышки на Солнце? |
17: 40
PocketSprite: миниатюрная консоль для ретро-игр |
17: 40
Слабеющий Bitcoin вынудил россиян продавать оборудование для майнинга |
17: 40
Распродажа в GearBest: скидки на Android-смартфоны и планшеты |
17: 00
HP обновила мобильные рабочие станции ZBook 14u и 15u |
16: 40
Facebook тестирует специальную кнопку для непонравившихся комментариев |
16: 40
Пчелы-чужаки отбирают нектар у местных пчел |
16: 20
Publicis Groupe и Microsoft создадут платформу Marcel на основе искусственного интеллекта |
16: 20
Российские банки распознают клиентов по лицу при оформлении кредитов |
16: 20
Emojipedia показала новые эмодзи для 2018 года |
16: 00
Apple начала продажи смарт-колонки HomePod |
16: 00
New Horizons сделал снимок, находясь на рекордном расстоянии от Земли |
14: 40
Patriot Memory готовит SSD Viper на базе контроллера Phison E12 |
14: 40
Зимние игры на Яндексе |
14: 20
Состоялся релиз CloudStack-UI версии 1.410.18 |
14: 00
Первое существо, научившееся ходить, могло никогда не выйти из воды |
14: 00
Фронтальная камера смартфона Xiaomi Mi Mix 2S может находиться в углу экрана |
14: 00
Фото дня: док-станция DeX Pad для смартфона Samsung Galaxy S9 |
13: 40
В Сеть попала часть исходного кода iOS, но переживать за безопасность не стоит |
13: 40
Google откроет новый ЦОД в Южной Корее |
13: 40
ФСБ остановила майнинг биткоинов на военном суперкомпьютере |
13: 00
Неизвестный смартфон с SoC Snapdragon 845 замечен в Geekbench |
13: 00
Космический корабль Dream Chaser отправится на МКС в 2020 году |
Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Февраль 2003: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28