Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 343
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

11: 20
Китай делает самый мощный суперкомпьютер |
11: 00
Как сделать игрушечную электролодку своими руками |
11: 00
Enzmann 506: как построить спорткар из «Фольксвагена» |
11: 00
Intel создала дрон, который принял участие в конкурсе по броскам сверху НБА |
11: 00
Названы самые популярные игры января в США |
11: 00
Госдума предложила запретить на три года перелёты авиадебоширам и другим нарушителям правил |
10: 40
Зачем ехать в акселератор за рубеж и как к нему готовиться — Опыт участника Starta Accelerator |
10: 40
ChargeWrite — шариковая ручка, стилус, внешний аккумулятор и накопитель в одном корпусе |
10: 40
Гаджеты на свидании вредят отношениям |
10: 40
Terraria разошлась тиражом больше 20 миллионов копий |
10: 20
Луну могут назвать планетой |
10: 20
У Марса появятся кольца |
10: 20
Россияне обновляют iPhone раз в 20 месяцев — смартфоны стали слишком дорогими |
10: 20
У Nintendo украли несколько приставок Switch |
10: 20
Появилось новое видео Warhammer 40.000: Dawn of War III |
10: 20
Апокалипсис может случиться из-за нагрева планеты |
10: 00
Китайцы строят суперкомпьютер на квинтиллион вычислений в секунду |
10: 00
Apple и Broadcom два года работают над технологией беспроводной зарядки для iPhone |
10: 00
AMD Ryzen 1600X обогнал Intel Core i7-6800K в Cinebench R15 |
10: 00
На гонках Formula E ePrix произошла авария |
08: 40
Как будут выглядеть гоночные электроболиды будущего? |
08: 40
Миссия "Европа": как НАСА планирует избежать загрязнения луны Юпитера |
08: 00
Игровой движок FIFE 0.4.1 |
07: 40
Акционеры Harman в целом поддержали сделку с Samsung |
07: 20
Конгресс США обеспокоен тем фактом, что Дональд Трамп продолжает использовать незащищённый смартфон Samsung Galaxy S3 |
07: 20
iPhone 7 проиграл Nokia 3310 в тесте на быстродействие |
07: 00
ВТБ24 узнает по лицу и голосу |
07: 00
ФАС оценила ошибку МТС в четверть миллиона |
07: 00
E-Wolf: не строй суперкар, если не уверен |
07: 00
Легкий оригами-щит останавливает пули |
07: 00
В Китае дронов с огнеметами используют для утилизации мусора |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003