Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 349
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

18: 40
Apple интегрирует Touch ID в дисплей iPhone 8 |
18: 40
3D ручка — совершенно новые возможности в рисовании |
18: 40
Чем завоевывает популярность моноблок? |
18: 40
TSMC подтверждает намерение начать серийный выпуск 7-нанометровой продукции в будущем году |
18: 40
NVIDIA представила графику GeForce MX150 для ноутбуков |
18: 40
Молоток-носорог: инструмент для любителей безумных вещей |
18: 20
Mannequin head dance — вернулась странная забава интернета |
18: 20
Тренажёр для Аквамэна или, как устроить конкурс мокрых маек в тренажёрном зале |
18: 00
Исследование: как тип устройства влияет на понимание сложных текстов |
17: 20
Что будет, если просверлить смартфон дрелью? |
17: 20
Что посмотреть на выходных #122: зубодробительная подборка |
17: 20
Первый в мире мультимедийный надгробный памятник |
16: 40
Осторожно, этот баг ломает компьютеры под Windows 7 и 8 |
16: 40
Барбекю и пинг-понг: почему наличие шикарного офиса слишком переоценивается |
16: 40
Uber и КФУ назвали Санкт-Петербург наиболее обеспеченным такси российским городом |
16: 20
Пользователи Яндекс.Такси заметили зависимость цен от телефона |
16: 20
Samsung выпустит Galaxy S8 и S8+ в трёх новых цветах |
16: 20
В Китае заработала крупнейшая в мире плавучая электростанция |
15: 40
Крупнейшая в мире ветряная электростанция начала работу в Британии |
14: 40
El Matador: самый стильный редизайн классического Ford |
14: 20
Дельфин умер, пытаясь пообедать осьминогом |
14: 00
Глобальный предзаказ на смартфон LEAGOO M7 с двойной камерой |
14: 00
ФАС разрешила структуре ЕСН приобрести контроль над РБК |
13: 40
«ВКонтакте» анонсировала музыкальную премию VK Music Awards |
13: 40
Toshiba сообщила кредиторам, что ей трудно будет договориться с Western Digital |
13: 40
Стартуют бесплатные выходные в Overwatch |
13: 40
Чехол для iPhone 8 сравнили с iPhone 7 и iPhone 7 Plus [видео] |
13: 40
Что за точка на твоём iPhone? |
13: 20
Пентагон получит космический беспилотник |
12: 20
iPhone спас девушку от шрапнели разорвавшейся бомбы |
12: 20
DJI Spark: карманный дрон, которым можно управлять с помощью жестов |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003