Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 364
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

07: 40
Eluga C — первый «полноэкранный» смартфон Panasonic |
07: 40
Смартфон 360 N6 Pro может получить второй экран и два дактилоскопических датчика |
07: 20
Если бы Tesla выпустила смартфон, он выглядел бы так |
07: 00
Apple подала заявку на патент гибкого дисплея |
07: 00
Apple приобрела стартап-проект дополненной реальности |
18: 40
Технические характеристики Lamborghini Urus раскрыты до премьеры |
18: 20
Беспилотники Ford смогут понимать язык тела и выражения лица |
18: 20
Нам пишут: Концепт безрамочного смартфона BlackBerry |
18: 20
Найдите на снимке снежного барса |
17: 40
Смартфону Galaxy S9 приписывают камеру с трехслойным датчиком, способную снимать со скоростью более 1000 к/с |
17: 20
Настройка и подключение Турбо-страниц |
17: 20
Как делают металлические газовые баллоны? |
17: 20
Молнии вызывают ядерные реакции в небе |
16: 40
Распродажа от Cafago: смартфоны, шапки с Bluetooth и не только |
16: 40
Стали известны цены на грузовик Tesla. Они ниже ожидаемых |
16: 40
OnePlus 5T против iPhone X: тест на скорость |
15: 20
На Kickstarter появилась бутылка Quartz с функцией автоматической очистки воды |
14: 40
Доступные и быстрозаменяемые детские протезы: история создания востребованного продукта |
14: 40
Tesla построила крупнейшую в мире литий-ионную батарею |
14: 20
OnePlus может отказаться от выпуска смартфона 6T |
14: 20
TENAA показал смартфон Huawei Nova 2s |
14: 20
В новые SSD Colorful Plus Series вмещается до 640 Гб данных |
14: 20
OnePlus 5T обошел iPhone X в испытании на быстродействие |
14: 20
Пора узнать, как работает вибрация в телефонах |
14: 20
Чтобы доказать, что Земля плоская, американец построил паровую ракету |
14: 20
От продавца тканей до самого крупного производителя игрушек |
14: 00
Смартфон Little Pepper S11 пытается копировать iPhone X, но у него это не получается |
14: 00
На YouTube запретили издеваться над детьми |
13: 40
Растения-шпионы: идеальные разведчики на ближайшем газоне |
13: 20
Китайцы показали самую быструю боевую амфибию |
13: 20
77% из 433 тысяч изученных сайтов использую уязвимые версии JavaScript-библиотек |
Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003