Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 345
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

07: 00
Анонсирован непривязанный джейлбрейк для iOS 10.3 |
16: 20
Rust 1.16 |
16: 00
В Китае нашли "мухоморы" мелового периода |
16: 00
Российский Uber начал показывать цвет машины |
15: 40
Пользователи домашнего помощника Google Home пожаловались на аудиорекламу |
15: 40
Появились первые изображения 3D-карты AMD Radeon RX Vega |
15: 40
Внутреннее соединение Infinity Fabric в процессоре AMD Ryzen работает на частоте памяти |
15: 00
Как упорство позволило совместить увлечение всей жизни с программированием — Разработчик Игорь Гриценко о создании просмотрщика файлов в формате Sketch |
14: 40
«Одноклассники» сделают просмотр видео платным |
14: 40
10 самых крутых автомобилей из фильма "Безумный Макс: Дорога ярости" |
14: 40
Американцы показали секретные ядерные испытания |
14: 40
Учёные научились находить клетки, где прячется ВИЧ |
14: 20
Выключите уже эту вспышку! |
14: 20
Зацените новейший iPhone в ретро-стиле |
14: 20
Samsung Galaxy S8 с 6 ГБ ОЗУ выйдет только в Китае |
14: 20
Samsung Galaxy Note 5 начал обновляться до Android 7.0 Nougat |
14: 20
Приснится же |
14: 20
Артемий Лебедев создал дизайн кроссовок для конкурса Nike |
14: 00
Mail.Ru Group договорилась с «дочкой» Alibaba о совместном распространении мобильных игр |
13: 40
Разнообразие игровых слотов в онлайне |
13: 40
Денежные ставки в интернете |
13: 40
Лучшие слоты от проверенных создателей |
13: 40
Евросеть разваливается |
13: 40
Это обзор отвёртки Xiaomi WOWStick 1FS. Отвертка. От Xiaomi. |
13: 00
Blizzard хочет оштрафовать разработчика читов на $8,5 млн |
13: 00
ФРИИ проинвестирует 15 млн рублей в сервис по поиску нянь KidsWay |
12: 40
Sony прекращает производство консоли PS3 |
12: 40
Новая модель камеры Samsung Gear 360 появилась в базе данных FCC |
12: 40
Apple подняла цены на музыку в iTunes в России |
12: 40
ColorWare создала винтажный iPhone 7 Plus Retro Edition за 1899 долларов |
12: 40
Apple построит два дополнительных центра исследований и разработок в Китае |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Ноябрь 2016: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30