Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 341
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

13: 21
В России подешевели AirPods. И заказавших это коснётся |
13: 01
Новая линейка драйверов и эталонная реализация EGL/Wayland от Nvidia |
12: 41
Акции Apple выросли до максимального значения с 2015 года |
12: 41
Как поменять аккумулятор в автомобиле своими руками? |
12: 41
Патент недели: платформа-ледокол |
12: 41
Контрольная «Выходи решать!»: участники могут пройти пробный тест |
12: 21
«Коммерсантъ»: Банки попросят ЦБ не вводить обязательство по переводу средств бюджетников на карты «Мир» |
12: 21
Twitter продаёт платформу Fabric компании Google |
12: 01
Питч-презентация Theranos для инвесторов в 2006 году: целевой рынок и преимущества перед конкурентами |
12: 01
Экс-представитель Twitter в России Алексей Шелестенко объявил о переходе на пост главы российского Tinder |
11: 41
Nokia 6 раскупили буквально за минуту в первый день продаж |
11: 41
Вице-президента Samsung не стали арестовывать |
11: 41
Что происходит на краю Вселенной? |
11: 21
Анонс смартфона LG G6 назначен на 26 февраля 2017 |
11: 21
Компания Oracle опубликовала план разработки Solaris и SPARC |
11: 21
Несколько сотрудников Huawei обвиняются в передаче данных компании LeEco |
10: 41
Гоночная версия Tesla Model S стала быстрее |
10: 21
Что такое Bootloader и для чего он служит |
10: 21
«Только в первый час мы собрали более 700 тысяч рублей» — Как издательство настольных игр Crowd Games проводит самую успешную краудфандинговую кампанию в истории Boomstarter |
10: 21
Проект Mozilla представил новый логотип |
10: 01
Caviar выпустила серию смартфонов Huawei P9 Russia и China Friendship Edition |
10: 01
Южнокорейский суд не выдал разрешение на арест руководителя Samsung |
09: 41
Автомобили экстренных служб смогут перебивать музыку |
08: 41
В рамках коллективного иска от Apple требуют внедрения функции блокировки отправки текстовых сообщений во время вождения |
08: 21
Новый стилус Apple Pencil научат примагничиваться к корпусу планшета для транспортировки |
08: 21
Что случилось 18.01.2017? |
08: 21
Apple Pencil 2 будет крепиться к iPad на магнитах |
08: 21
PulseAudio 10.0 |
08: 01
В Telegram появятся аудиозвонки |
08: 01
Google научит смартфоны на Android поиску без интернета |
08: 01
Велосипедист-экстремал остался жив благодаря Siri |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003