Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

EWL: новая литографическая надежда или несбыточная мечта?

Понедельник, 13 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В минувшем месяце, когда Intel объявляла об успешном создании прототипа SRAM с соблюдением норм 0,45-нм техпроцесса, на поверхность всплыла очень важная деталь – микропроцессорный гигант по-прежнему использует "сухую" 193-нм литографию, отказываясь от иммерсии. Более того, подобно тому, как несколько лет назад Intel поставила крест на 157-нм литографии, компания готова отказаться и от иммерсионной технологии, готовясь к 2009 году начать внедрение EUV-литографии, где подразумевается использование источников жесткого ультрафиолетового излучения.

В качестве еще одной возможной альтернативы EUVL, кроме импринт-литографии, может выступить EWL (литография с использованием исчезающее малых величин излучения), исследование которой ведется в Калифорнийском Технологическом Институте, Университете Калифорнии в Беркли и других научно-исследовательских группах. Некоторые еще называют EWL, работающую в ближнепольной зоне, "контактной литографией".

Как ожидается, в ходе посвященной микролитографии конференции SPIE, которая пройдет с 19 по 24 февраля, Рочестерский Технологический Институт (RIT) представит результаты работы, в ходе которой при помощи EWL удалось создать рисунок размером 26 нм. Как сообщают сотрудники RIT, это существенно лучше, чем удалось добиться в Калифорнийском Технологическом и в Беркли. Но самое главное – RIT сумела создать изображение без контакта с подложкой (до сих пор EWL подразумевала создание исчезающее малых полей под контактной маской), что позволяет рассматривать технологию как дальнейшее расширение оптической литографии. Изображение от последнего элемента оптической системы проецируется на подложку через среду с показателем преломления ниже, чем численное значение апертуры системы построения изображения. Причем численное значение апертуры достигло 1,85, что почти в два раза больше, чем у коммерчески доступных иммерсионных сканеров. Таким образом, иерархия оптических литографических технологий может быть выстроена следующим образом: обычная литография – иммерсионная литография (численное значение апертуры от 1 до 1,65 – предельного теоретического значения) – EWL (численное значение апертуры более 1,65).

Однако, несмотря на перспективность новой технологии в техническом плане, есть определенные сомнения в ее применимости в экономическом плане – крупнейший покупатель литографического оборудования, по сути, отказался приобретать как 157-нм, так и 193-нм иммерсионные инструменты. Без сомнения, разработчики литографических инструментов найдут себе покупателей, в частности, IBM и AMD, однако, в случае с EWL ситуация может стать еще более пикантной – в разработке RIT используются оптические элементы из сапфира (показатель преломления на длине волны 193 нм - 1,92), что вполне нормально для лабораторного устройства, но вряд ли будет хорошо для промышленности.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 346
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

18: 40
Теперь 3D-принтеры могут работать и со стеклом |
18: 40
Элон Маск: соединить мозг с компьютером можно будет через 8 лет |
18: 00
Lexus NX стал ярче и адаптивнее |
18: 00
Запуск реактивных двигателей: залипательная подборка |
18: 00
В картах памяти Adata ISDD361 используется флэш-память SLC NAND |
17: 20
Что посмотреть на выходных #117: шпионская подборка |
16: 40
Баден-Баден и уведомления в Вебмастере |
16: 40
"Хоббиты" оказались братьями человека умелого |
16: 40
Электрическая стимуляция мозга улучшает память |
15: 20
Blackview BV7000 — упрощенная версия «неубиваемого» смартфона BV7000 Pro |
15: 00
Второе поколение 10-нм техпроцесса Samsung FinFET готово к производству |
14: 40
Tesla отзывает 53000 электромобилей из-за проблемы с тормозами |
14: 40
В сердце нашли встроенный "дефибриллятор" |
14: 40
Что будет, если пропустить звук через 10 мегафонов подряд? |
14: 20
MSI выпустила самые компактные версии видеокарты Radeon RX 550 |
14: 20
NXP Semiconductors продала акции китайского контрактного производителя полупроводниковой продукции ASMC |
14: 00
Новое "Большое мусорное пятно" в Северном Ледовитом океане |
14: 00
Как сделать электролобзик своими руками |
14: 00
В Китае на пешеходных переходах поставили турникеты |
14: 00
Госдума утвердила законопроект о переводе бюджетников на карты «Мир» |
13: 40
В следующем году Sharp выйдет на европейский рынок смартфонов |
13: 40
Красноватый оттенок дисплея Samsung Galaxy S8 планируют убрать при помощи прошивки |
13: 40
NIO ES8 — вместительный электромобиль из Поднебесной |
13: 40
Мобильное Облако Mail.Ru стало дружелюбнее к планшетам |
13: 40
Сотрудник Apple пожаловался на боль в глазах после прототипа очков дополненной реальности |
12: 40
Безрамочному смартфону Doogee Mix приписывают цену не более $200 |
12: 40
Стартовали международные продажи Samsung Galaxy S8 и S8+ |
12: 40
РЖД выпустило приложение для покупки билетов на iOS и Windows Mobile |
12: 40
В США насчитали более 85 млн владельцев iPhone возрастом не младше 13 лет |
12: 40
Ассортимент Gigabyte пополнился двумя картами Radeon RX 550, отличающимися габаритами, охладителями и частотами |
12: 40
Универсальные карты Plastc Card, способные заменить все пластиковые карты владельца, не появятся на рынке из-за закрытия компании |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003