В Китае создано литографическое оборудование для производства полупроводниковой продукции по нормам 28 нм

Понедельник, 7 декабря 2020 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Санкции США, ограничивающие использование американских технологий Китаем, не привели к остановке китайской полупроводниковой промышленности. Лишившись возможности закупать не только американское оборудование, но и оборудование, произведенное в других странах с использованием американских технологий, Китай выбрал единственно правильный путь — разработку собственных технологий.

Согласно новой информации, компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) уже разработала литографическую установку, работающую в глубоком ультрафиолете (DUV). Ее поставки должны начаться в четвертом квартале 2021 года. Это оборудование подходит для выпуска продукции по нормам 28 нм. Безусловно, это не самый передовой техпроцесс, но в мире всего несколько производителей, способных выпускать такое оборудование. Крупнейшим из них является нидерландская компания ASML. Хотя в ее продукции доля американских технологий ниже порога, определенного в санкциях, по «просьбе» США ASML не поставляет его в Китай.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 271
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003