IMEC создает международный консорциум для разработки иммерсионных технологий

Бельгийский научно-исследовательский центр IMEC (Interuniversities MicroElectronics Center) сообщил о создании консорциума, включившего в себя 30 компаний, для работы над иммерсионными технологиями с 193-нм источниками света. Эта работа будет проведена в рамках исследовательской программы IMEC, посвященной исследованию возможностей применения 193-нм иммерсионных литографических инструментов для создания элементов размером менее 45 нм. Ранее (в январе), когда в прессе появилось первое упоминание о проекте IMEC, уже сообщалось о намерении внедрить 193-нм иммерсионные технологии в массовое производство полупроводниковых микросхем с соблюдением норм 65-нм процесса.

В консорциум вошли такие производители микросхем, как Intel, Samsung, Texas Instruments, Philips, Infineon, STMicroelectronics и Matsushita, а также NEC Electronics и Sony; и такие поставщики литографического оборудования, как ASML, Carl Zeiss, Cymer, Donaldson Extraction Systems, KLA-Tencor, Lam Research и Tokyo Electron. Свое место в консорциуме нашли и поставщики фоторезистивных и анти-рефлективных материалов Arch, AZ, JSR, Shin-Etsu, TOK, Brewer Science и Nissan Chemicals, производители фотомасок Dai Nippon Screen, Toppan Printing и Photronics.

Не могу удержаться от того, чтобы не сказать, что IMEC являет собой пример положительного эффекта глобализации экономики. Впрочем, насколько IMEC будет успешнее сепаратных европейских разработок (MoreMoore, NanoCMOS и NaPa), покажет время.

Источник: Silicon Strategies