Разработан новый быстрозастывающий полимер

Профессор То-Минг Лу и его коллеги из политехнического института Ренслеера и компании Polyset Company разработали новый недорогой быстрозастывающий полимер, получивший название полисетный эпоксидный силоксан, сообщает EurekAlert.

Открытие может привести к значительному удешевлению и повышению эффективности процесса производства полупроводников и изготовления микросхем.

Одним из этапов процесса фотолитографии является нанесение тонкой полимерной пленки – слоя перераспределения – на кремниевую подложку, который способствует распространению сигнала и защищает микросхему от воздействия внешних факторов. В качестве полимера для изготовления слоя перераспределения может использоваться PES, который к тому же обладает еще одним полезным свойством – он может также применяться и для технологии нанопечати.

Новый полимер отвердевает при температуре 165 градусах Цельсия, что на 35% ниже по сравнению с другими материалами, использующимися в фотолитографии. Кроме того, он обладает низким водопоглощением и высокой адгезией к меди. PES может также использоваться для изготовления оптических приборов, индикаторных панелей и микроэлектромеханических систем.