Intel представит 45 нм чипы во втором квартале 2007 года

Глава корпорации Intel, г-н Пол Отеллини, заявил, что во втором квартале следующего года компания планирует начать выпускать чипы по техпроцессу 45 нм.

В основном производство будет вестись на заводе Fab D1D, который расположен в штате Орегон, США. Эта фабрика в течение какого-то времени производит тестовые пластины по новому техпроцессу. В данный момент D1D, уже произвела пластин общей площадью более чем 20 квадратных километров. Таким образом, Fab D1D станет первой фабрикой корпорации, которая освоила техпроцесс 45 нм.


В течение 18 месяцев к Fab D1D добавятся еще два модернизированных завода, которые займутся производством по 45-нм техпроцессу. Во-первых, Fab32, расположенный в Аризоне. Он будет вновь запущен в 2007 году. Во-вторых, израильский Fab 28, конвейеры которого откроются в 2008 году.

Три завода будут осуществлять производство 15 новых 45-нм продуктов компании, которые в данный момент находятся в стадии разработки. В следующем году компания планирует представить несколько из них. Первым 45-нм решением станет Nehalem, который появиться в течение следующего года. Впрочем, говорить, что эти чипы, молниеносно завоюют рынок не приходиться. Компания планирует начать поставки только в 2008 году, поэтому техпроцесс 65 нм будет все еще актуален.