Intel переходит на 45 нм: новый завод в Израиле
Корпорация Intel приступает к строительству завода по производству 300-миллиметровых подложек в г. Кирьят-Гат (Израиль). Новый завод, получивший название Fab 28 обеспечит возможность производства, начиная со второй половины 2008, года самых современных микропроцессоров с использованием 45-нанометровой технологии. Fab 28 станет уже вторым заводом Intel, на котором будет внедрен 45-нанометровый технологический процесс производства процессоров. Его стоимость составит 3,5 миллиарда долларов.
Завод Intel Fab 32
"Корпорация Intel намерена упрочить свои позиции лидера в производстве полупроводников, - сказал Пол Отеллини, президент и главный исполнительный директор корпорации Intel. - Наша производственная сеть является стратегическим активом уникальной величины и масштабов. Благодаря ей мы можем поставлять заказчикам самую современную продукцию в необходимом объеме. Объявление о начале строительства второго завода по серийному выпуску микросхем с использованием 45-нм технологии - новое свидетельство того, что платформы Intel еще долгие годы будут создаваться на базе самых передовых технологий".
После ввода в эксплуатацию Fab 28 станет седьмым заводом Intel, производящим 300-миллиметровые подложки. Площадь его стерильного помещения составит примерно 18 тысяч квадратных метров, т.е. примерно равна площади футбольного помещения. Благодаря этому проекту в течение следующих семи лет в корпорации Intel будет создано более 2000 рабочих мест. Правительство Израиля обеспечивает финансовую поддержку строительства нового завода.
Сейчас 300-миллиметровые подложки выпускают пять заводов Intel. Они обладают примерно такой же производственной мощью, как восемь заводов Intel предыдущего поколения, производящих 200-миллиметровые подложки. Эти пять заводов расположены в штатах Орегон, Аризона и Нью-Мексико, а также в Ирландии, где в первом квартале следующего года будет введен в строй дополнительный модуль по производству 300-миллиметровых подложек (Fab 24-2). В июле корпорация Intel объявила о намерении инвестировать более 3 миллиардов долларов в строительство еще одного завода по производству 300-миллиметровых подложек - Fab 32 в Чэндлере (штат Аризона).
Производство 300-миллиметровых подложек позволяет значительно снизить себестоимость изготовления полупроводниковых микросхем по сравнению со стандартными 200-миллиметровыми. При использовании 300-миллиметровых подложек требуется на 40% меньше электроэнергии и воды в расчете на одну микросхему, чем при производстве с использованием 200-миллиметровых подложек. Производственная технология Intel с проектной нормой 45 нм, которая впервые будет применена в массовом производстве на Fab 32, позволит разместить то же количество микросхем на примерно вдвое меньшей площади по сравнению с 90-нм технологией.
Уместно напомнить, что, начиная с 2000 года, корпорация Intel инвестировала более 40 миллиардов долларов в средства производства, научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы. Сейчас Intel поставляет десятки миллионов процессоров, выпущенных по 90-нанометровой производственной технологии, и уже начала поставки микросхем, созданных с помощью 65-нанометрового техпроцесса.
Статьи о новинках Intel:Чипсет Intel 975X: поддержка двух графических карт ATi CrossFirePentium, Шментиум: разбираемся в номенклатуре CPUТестируем Intel Presler: новый 65-нм процессор со сдвоенным ядром65-нм процессор Pentium 4 на ядре Cedar Mill: тестированиеДвуядерный процессор против двух одноядерных: что выгоднее?
Завод Intel Fab 32
"Корпорация Intel намерена упрочить свои позиции лидера в производстве полупроводников, - сказал Пол Отеллини, президент и главный исполнительный директор корпорации Intel. - Наша производственная сеть является стратегическим активом уникальной величины и масштабов. Благодаря ей мы можем поставлять заказчикам самую современную продукцию в необходимом объеме. Объявление о начале строительства второго завода по серийному выпуску микросхем с использованием 45-нм технологии - новое свидетельство того, что платформы Intel еще долгие годы будут создаваться на базе самых передовых технологий".
После ввода в эксплуатацию Fab 28 станет седьмым заводом Intel, производящим 300-миллиметровые подложки. Площадь его стерильного помещения составит примерно 18 тысяч квадратных метров, т.е. примерно равна площади футбольного помещения. Благодаря этому проекту в течение следующих семи лет в корпорации Intel будет создано более 2000 рабочих мест. Правительство Израиля обеспечивает финансовую поддержку строительства нового завода.
Сейчас 300-миллиметровые подложки выпускают пять заводов Intel. Они обладают примерно такой же производственной мощью, как восемь заводов Intel предыдущего поколения, производящих 200-миллиметровые подложки. Эти пять заводов расположены в штатах Орегон, Аризона и Нью-Мексико, а также в Ирландии, где в первом квартале следующего года будет введен в строй дополнительный модуль по производству 300-миллиметровых подложек (Fab 24-2). В июле корпорация Intel объявила о намерении инвестировать более 3 миллиардов долларов в строительство еще одного завода по производству 300-миллиметровых подложек - Fab 32 в Чэндлере (штат Аризона).
Производство 300-миллиметровых подложек позволяет значительно снизить себестоимость изготовления полупроводниковых микросхем по сравнению со стандартными 200-миллиметровыми. При использовании 300-миллиметровых подложек требуется на 40% меньше электроэнергии и воды в расчете на одну микросхему, чем при производстве с использованием 200-миллиметровых подложек. Производственная технология Intel с проектной нормой 45 нм, которая впервые будет применена в массовом производстве на Fab 32, позволит разместить то же количество микросхем на примерно вдвое меньшей площади по сравнению с 90-нм технологией.
Уместно напомнить, что, начиная с 2000 года, корпорация Intel инвестировала более 40 миллиардов долларов в средства производства, научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы. Сейчас Intel поставляет десятки миллионов процессоров, выпущенных по 90-нанометровой производственной технологии, и уже начала поставки микросхем, созданных с помощью 65-нанометрового техпроцесса.
Статьи о новинках Intel:Чипсет Intel 975X: поддержка двух графических карт ATi CrossFirePentium, Шментиум: разбираемся в номенклатуре CPUТестируем Intel Presler: новый 65-нм процессор со сдвоенным ядром65-нм процессор Pentium 4 на ядре Cedar Mill: тестированиеДвуядерный процессор против двух одноядерных: что выгоднее?
Ещё новости по теме:
18:20