Samsung готовится начать выпуск графических процессоров по 7-нм технологии
После отказа GlobalFoundries от освоения 7-нм технологии у профильного подразделения Samsung появляются новые возможности по укреплению позиций в сегменте контрактного производства полупроводниковых изделий. Ресурс PC Watch Impress поделился откровениями представителей Samsung на одном из профильных отраслевых мероприятий в Японии, и теперь становится ясно, что упускать эти возможности корейский гигант не собирается.
Источник изображения: PC Watch Impress
В прошлом году Samsung Foundry стал самостоятельной структурной единицей в составе корейской империи. Как уже не раз отмечалось, EUV-литографию Samsung начнёт внедрять уже в рамках 7-нм техпроцесса, и даже если чуть позже, чем TSMC, но более агрессивно с точки зрения количества слоёв. Опытные образцы 4-нм и 5-нм изделий с применением FinFET-структур будут выпущены в следующем году, а к 2020 году компания рассчитывает освоить 3-нм литографию с использованием компоновки GAA (gate all around). Последним техпроцессом с использованием FinFET станет 4-нм.
Интригующее признание было сделано представителями Samsung относительно сферы применения 7-нм техпроцесса с EUV-литографией. Как выясняется, выпускать по этой технологии корейский подрядчик будет и графические процессоры нового поколения для стороннего заказчика. В качестве последнего наверняка фигурирует AMD или NVIDIA.
К концу 2019 года Samsung завершит строительство новой производственной линии, которая будет использовать исключительно литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Полноценное серийное производство продукции будет освоено в 2020 году. В 2019 году компания также рассчитывает освоить использование трёхмерной компоновки полупроводниковых изделий с межслойными соединениями.
Источник изображения: PC Watch Impress
В прошлом году Samsung Foundry стал самостоятельной структурной единицей в составе корейской империи. Как уже не раз отмечалось, EUV-литографию Samsung начнёт внедрять уже в рамках 7-нм техпроцесса, и даже если чуть позже, чем TSMC, но более агрессивно с точки зрения количества слоёв. Опытные образцы 4-нм и 5-нм изделий с применением FinFET-структур будут выпущены в следующем году, а к 2020 году компания рассчитывает освоить 3-нм литографию с использованием компоновки GAA (gate all around). Последним техпроцессом с использованием FinFET станет 4-нм.
Интригующее признание было сделано представителями Samsung относительно сферы применения 7-нм техпроцесса с EUV-литографией. Как выясняется, выпускать по этой технологии корейский подрядчик будет и графические процессоры нового поколения для стороннего заказчика. В качестве последнего наверняка фигурирует AMD или NVIDIA.
К концу 2019 года Samsung завершит строительство новой производственной линии, которая будет использовать исключительно литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением. Полноценное серийное производство продукции будет освоено в 2020 году. В 2019 году компания также рассчитывает освоить использование трёхмерной компоновки полупроводниковых изделий с межслойными соединениями.
Ещё новости по теме:
18:20