У Picosun готовы решения для ALD с соблюдением норм 10 нм

Вторник, 20 января 2015 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Телеграм'e и Twitter'e

Финская компания Picosun, специализирующаяся на выпуске реакторов для атомно-слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition, ALD), сообщила о готовности решений, предназначенных для 10-нанометрового полупроводникового производства.

Как утверждается, не имеющие себе равных наработки Picosun в указанной области позволили предложить совершенно новые инструменты и методы производства, пригодные для производства микропроцессоров, памяти и силовых электронных компонентов, а также многофункциональных датчиков для медицинского оборудования. Разработки выполнены в рамках участия Picosun в шести международных европейских проектах под эгидой Horizon2020 и ECSEL.

Как скоро решения Picosun для ALD в 10-нанометровом полупроводниковом производстве поступят к заказчикам, и где именно они будут установлены — источник не сообщает.

Источник: Picosun

Комментировать

Следите за нами в ВКонтакте, Телеграм'e и Twitter'e


Просмотров: 434
Рубрика: Hi-Tech


Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003