IBM начинает разработку чипов по 45-нм техпроцессу

Четверг, 26 мая 2005 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Руководство IBM заключило соглашение с Toppan Printing, в камках которого специалисты обеих компаний займутся разработкой чипов по новому 45-нанометровому процессу.

Технология, которая будет создана совместными усилиями обеих компаний, позволит сократить расстояние между транзисторами с 90 и 65 до 45 нм, благодаря чему можно будет или уменьшить размеры чипа, и разместить на нем большее число транзисторов.

В основе решения лежит процесс разработки специального фотошаблона или фотомаски, предназначенных для вытравливания образцов интегральных схем на кремниевой пластине. Такая технология, по словам IBM, обеспечит не только качественное, но и быстрое производство новых чипов.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 493
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Rating@Mail.ru