Intel делает это снова…

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Похоже, что история с 157-нм литографией, за которую долгое время радела компания Intel, а потом отказалась от ее внедрения в производство, повторяется и с ультрафиолетовой (EUV) технологии. Вследствие вероятной недоступности в срок инструментов и расходных материалов, Intel отказалась от планов внедрения EUV-литографии в производство по 32-нм нормам. Вместо этого, для норм 32 нм компания продолжит использовать оптическую литографию (хотя, строго говоря, длина волны 193 нм соответствует ближнему ультрафиолету, впрочем, в EUV используются куда более коротковолновые источники – 13 нм).

Источник сообщает, что ASML будет готова поставить первое EUV-оборудование уже в этом году, однако его, равно как и ожидающееся в следующем году решение от Nikon, можно будет использовать только для создания пробных образцов. А такая ситуация Intel не устраивает – компании хотелось бы к 2007 году получить в свое распоряжение инструменты, которые можно было бы использовать в массовом производстве.

Впрочем, в Intel не склонны драматизировать ситуацию, понимая сложность стоящей перед разработчиками литографического оборудования задачи. К тому же, в отличие от 157-нм литографии ситуация, быть может, еще не так безнадежна: несмотря на упомянутые сегодня трудности, в Intel не теряют надежды попробовать EUV–литографию в создании пробных партий 32-нм чипов. Что будет использовано для норм 22 нм, пока еще не решено, и перспективы EUV рассматриваются вместе с шансами на внедрение 193-нм оптической литографии, наряду с иммерсионными технологиями. Сейчас, для производства с соблюдением норм 65-нм технологического процесса, и в ближайшем будущем – для 45-нм норм, Intel использует "сухие" 193-нм инструменты.

Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 725
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Ноябрь 2008: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
Rating@Mail.ru