Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Вчера мы рассказывали об успехах компании IBM в деле освоения новых рубежей ультрафиолетовой иммерсионной литографии. Казалось бы, производители полупроводников получили надежду на то, что существующие технологии позволит им продержаться до подхода новых разработок. Однако не все так просто. Использование литографии все еще остается под большим вопросом, когда речь заходит о нормах 32 нм, освоение которых, по предварительным оценкам, ожидается в 2009 году. Источник рассказывает об опасениях, которыми вчера поделились эксперты бельгийской исследовательской организации IMEC на конференции SPIE Microlithography.
Дело в том, что в отрасли пока нет единого мнения, какая из разновидностей литографической технологии может быть использована при переходе к 32-нм процессу. Пока выбор обозначилось три технологии-кандидатки: ультрафиолетовая (EUV), 193-нм иммерсионная (использованная в разработке IBM) и технология с двойным экспонированием.
По мнению представителя IMEC, 193-нм иммерсионная технология и технология с двойным экспонированием являются "наименее рискованными". В своей лаборатории IMEC удалось с помощью 193-нм иммерсионной технологии изготовить элементы размером 40 нм. Использование иммерсионных жидкостей второго и третьего поколений с показателем преломления 1,65 и 1,8, теоретически, может обеспечить работу с нормами 32 нм. Как раз над созданием таких жидкостей и работают ученые.
Недостатки технологии с двойным экспонированием - повышенная стоимость, усложнение и удлинение производственного цикла.
Что касается EUV, то главными проблемами этой технологии являются разрешение и чувствительность фоторезиста, неоднородность краев линий. Кроме того, для EUV необходимы новые источники излучения. Срок жизни конденсора для EUV сейчас не превышает одного месяца. Ранее ожидалось, что к 2006 году удастся создать устройство, срок службы которого составит четыре года.
Могут ли такие трудности остановить стойких приверженцев EUV? По сведениям источника, оказавшись без соответствующего оборудования и материалов к намеченному ранее сроку, компания Intel отставила в сторону планы по внедрению EUV в серийном производстве по нормам 32 нм к 2009 году. Вместо этого, Intel теперь собирается сделать ставку на 193-нм литографию.
Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 373
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

15: 01
Haven -- система управления Docker |
15: 01
Опубликованы примеры снимков, сделанных объективом Meyer-Optik-Gorlitz 0,95/50 Nocturnus II |
14: 41
Сооснователь Maps.me Юрий Мельничек выпустил приложение для обработки фона фотографий с помощью нейросетей |
13: 21
Объем жестких дисков HGST Ultrastar He12 — 12 и 14 ТБ |
13: 21
Сингапурский предприниматель потратил $500 тысяч на отдых сотрудников на Мальдивах |
13: 01
Нейросеть делает 3D-маску по единственной фотографии |
12: 41
Представлены высокопроизводительные твердотельные накопители HGST Ultrastar SN200 NVMe и Ultrastar SS200 SAS |
12: 21
Final Fantasy XV очень плохо продается в Японии |
12: 21
Sony возвращает к жизни Wild Arms и Arc the Lad |
12: 21
Я утверждаю, что Xiaomi Redmi 3S – лучший смартфон 2016 года |
12: 01
Минкомсвязи не получит в 2016 году денег на поддержку отечественных ИТ-проектов |
18: 41
Изображения смартфона Samsung Galaxy A7 следующего поколения демонстрируют аппарат, похожий на флагманские модели |
18: 21
Можно ли провести успешный редизайн приложения — Кейсы Instagram, Medium, Tumblr |
17: 41
Foxconn может перенести производство iPhone в США |
17: 41
Российский робот-спасатель Федор готовится к испытаниям |
17: 41
Нервожгут: как заставить нервы останавливать кровотечения |
16: 41
Пульт SilverStone ES02-USB позволяет дистанционно включить, выключить или перезагрузить ПК |
16: 41
Покупка Microsoft социальной сети LinkedIn одобрена регуляторами |
16: 41
Apple заплатит штраф в $450 тыс. за загрязнение окружающей среды |
16: 21
Apple опубликовала советы для тех, кто фотографирует на iPhone 7 Plus |
16: 21
«Вес» приложений в Google Play сократится до 90% |
16: 01
У iPhone в Китае нет неисправных взрывающихся батарей |
16: 01
Парламент Франции ввел налог в 2% на рекламные доходы видеосервисов |
15: 41
Пыль из космоса найдена на крышах домов в Париже и Берлине |
15: 01
Почему MacBook Pro ругают только глупые люди |
15: 01
Первый в мире магазин без кассовых аппаратов |
15: 01
Морские лилии: живое украшение океана |
14: 41
Стали известны цена на телевизоры 4К OLED, которые Sony выпустит в 2017 году |
14: 41
Концептуальный смартфон Huawei Honor Magic дебютирует 16 декабря |
13: 41
Производитель снеков обучил подростков программированию с помощью акции по «спасению» блогеров от хакеров |
13: 21
Fitbit интересуют лишь разработчики ПО и интеллектуальная собственность Pebble |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003