Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Вчера мы рассказывали об успехах компании IBM в деле освоения новых рубежей ультрафиолетовой иммерсионной литографии. Казалось бы, производители полупроводников получили надежду на то, что существующие технологии позволит им продержаться до подхода новых разработок. Однако не все так просто. Использование литографии все еще остается под большим вопросом, когда речь заходит о нормах 32 нм, освоение которых, по предварительным оценкам, ожидается в 2009 году. Источник рассказывает об опасениях, которыми вчера поделились эксперты бельгийской исследовательской организации IMEC на конференции SPIE Microlithography.
Дело в том, что в отрасли пока нет единого мнения, какая из разновидностей литографической технологии может быть использована при переходе к 32-нм процессу. Пока выбор обозначилось три технологии-кандидатки: ультрафиолетовая (EUV), 193-нм иммерсионная (использованная в разработке IBM) и технология с двойным экспонированием.
По мнению представителя IMEC, 193-нм иммерсионная технология и технология с двойным экспонированием являются "наименее рискованными". В своей лаборатории IMEC удалось с помощью 193-нм иммерсионной технологии изготовить элементы размером 40 нм. Использование иммерсионных жидкостей второго и третьего поколений с показателем преломления 1,65 и 1,8, теоретически, может обеспечить работу с нормами 32 нм. Как раз над созданием таких жидкостей и работают ученые.
Недостатки технологии с двойным экспонированием - повышенная стоимость, усложнение и удлинение производственного цикла.
Что касается EUV, то главными проблемами этой технологии являются разрешение и чувствительность фоторезиста, неоднородность краев линий. Кроме того, для EUV необходимы новые источники излучения. Срок жизни конденсора для EUV сейчас не превышает одного месяца. Ранее ожидалось, что к 2006 году удастся создать устройство, срок службы которого составит четыре года.
Могут ли такие трудности остановить стойких приверженцев EUV? По сведениям источника, оказавшись без соответствующего оборудования и материалов к намеченному ранее сроку, компания Intel отставила в сторону планы по внедрению EUV в серийном производстве по нормам 32 нм к 2009 году. Вместо этого, Intel теперь собирается сделать ставку на 193-нм литографию.
Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 376
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

18: 40
Конструктор сайтов Wix приобрёл творческое сообщество DeviantArt за $36 млн |
18: 40
Доход Fitbit за квартал составил 574 млн долларов, за 2016 год в целом — 2,17 млрд долларов |
18: 20
У смартфонов Pixel снова проблемы |
18: 20
В Китае появились дроны с огнеметами |
18: 00
Полет дрона над огромным водосбросом |
17: 20
Европа даёт скидку 20% на любой iPhone. Как её получить? |
16: 40
Пользователи новых MacBook Pro жалуются на проблемы с клавиатурой |
16: 40
Как сделать игровой автомат: мастер-класс от "Королевы идиотских роботов" |
16: 20
Deutsche Bank: не ждите чуда от нового iPhone |
15: 00
Momo Mirage: гибрид «Феррари» и «Роллс-Ройса» |
14: 20
Эван Блэсс опубликовал характеристики смартфона Samsung Galaxy S8+ |
14: 20
Все готово для появления смартфонов с наэкранным сканером отпечатка |
14: 00
Швейцарский электрокар разгонится до 100 км/ч за 2,3 секунды |
13: 20
Samsung представила мощный 10-нанометровый процессор Exynos 9 Series 8895 |
12: 40
Солнечные батареи, сканер штрих-кодов, оплата отпечатками: семь масштабных стартап-провалов — Михаил Смолянов изучил отчёт CB Insights, посвящённый самым дорогим закрывшимся проектам |
12: 40
Великая битва: что лудше iPhone 7 или Samsung Galaxy S7 Edge? |
12: 40
По подсчетам JPR, за год доля AMD на рынке 3D-карт выросла с 21,6% до 29,5% |
12: 40
Опубликованы первые фотографии смартфона Xiaomi Mi6 |
12: 20
Конференц-зал в новой штаб квартире Apple Park назовут в честь Стива Джобса |
12: 00
Культура Чако: в Северной Америке власть контролировали женщины |
12: 00
Tesla не смогла стать прибыльной по итогам четвёртого квартала 2016 года |
12: 00
Характеристики Samsung Galaxy S8 Plus утекли в Сеть |
11: 00
Доход HP за минувший квартал составил 12,7 млрд долларов |
10: 20
Можно ли покупать iPhone 5s в 2017 году |
10: 20
Официальная сумма сделки между Fitbit и Pebble оказалась на $17 млн меньше предполагаемой |
10: 00
Пользователи новых MacBook Pro сообщают о проблемах с клавиатурой |
09: 20
В Сети доступны новые живые снимки флагманского смартфона Samsung Galaxy S8 |
07: 40
Apple представила красочный видеоролик нового кампуса Apple Park |
07: 00
Apple выкупила домен iCloud.net, закрыв одноимённую социальную сеть |
07: 00
Неизменность человеческой личности - это миф |
18: 00
Apple представила новый кампус Park, открытие в апреле |
Новости бизнесаСтатьиАналитические колонкиДеньгиКурс валютБизнес технологии
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Апрель 2005: 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30