Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Вчера мы рассказывали об успехах компании IBM в деле освоения новых рубежей ультрафиолетовой иммерсионной литографии. Казалось бы, производители полупроводников получили надежду на то, что существующие технологии позволит им продержаться до подхода новых разработок. Однако не все так просто. Использование литографии все еще остается под большим вопросом, когда речь заходит о нормах 32 нм, освоение которых, по предварительным оценкам, ожидается в 2009 году. Источник рассказывает об опасениях, которыми вчера поделились эксперты бельгийской исследовательской организации IMEC на конференции SPIE Microlithography.
Дело в том, что в отрасли пока нет единого мнения, какая из разновидностей литографической технологии может быть использована при переходе к 32-нм процессу. Пока выбор обозначилось три технологии-кандидатки: ультрафиолетовая (EUV), 193-нм иммерсионная (использованная в разработке IBM) и технология с двойным экспонированием.
По мнению представителя IMEC, 193-нм иммерсионная технология и технология с двойным экспонированием являются "наименее рискованными". В своей лаборатории IMEC удалось с помощью 193-нм иммерсионной технологии изготовить элементы размером 40 нм. Использование иммерсионных жидкостей второго и третьего поколений с показателем преломления 1,65 и 1,8, теоретически, может обеспечить работу с нормами 32 нм. Как раз над созданием таких жидкостей и работают ученые.
Недостатки технологии с двойным экспонированием - повышенная стоимость, усложнение и удлинение производственного цикла.
Что касается EUV, то главными проблемами этой технологии являются разрешение и чувствительность фоторезиста, неоднородность краев линий. Кроме того, для EUV необходимы новые источники излучения. Срок жизни конденсора для EUV сейчас не превышает одного месяца. Ранее ожидалось, что к 2006 году удастся создать устройство, срок службы которого составит четыре года.
Могут ли такие трудности остановить стойких приверженцев EUV? По сведениям источника, оказавшись без соответствующего оборудования и материалов к намеченному ранее сроку, компания Intel отставила в сторону планы по внедрению EUV в серийном производстве по нормам 32 нм к 2009 году. Вместо этого, Intel теперь собирается сделать ставку на 193-нм литографию.
Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 408
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

13: 00
Названа точная дата начала продаж камеры Olympus Pen E-PL9 |
13: 00
Производитель чехлов подтвердил наличие трех модулей в основной камере смартфона Huawei P20 Plus |
12: 40
68% американских родителей признали себя зависимыми от мобильных устройств |
11: 40
Смартфон Oppo R15 с поддержкой 20-ваттной зарядки тоже похож на iPhone X |
11: 40
Компания Universal Display отчиталась за минувший квартал и 2017 год в целом |
11: 20
Прекращена разработка коммуникационной платформы Apache Wave |
10: 40
Светодиодные лампы должны полностью вытеснить традиционное освещение в Индии уже в 2019 году |
10: 00
Смартфон Huawei Mate 10 Pro использовали для управления автомобилем Porsche Panamera |
09: 40
Мне надоел iPhone X |
08: 20
Беспроводная зарядная станция AirPower поступит в продажу в марте |
07: 20
За полгода функция SOS в iOS 11 успела достать службу 911 |
07: 00
Apacer пополняет линейку оперативной памяти Commando новыми комплектами DDR4 |
17: 40
Четыре китайские компании поддержали стандарт Micro Four Thirds |
17: 40
Microsoft разработала VR-систему для слепых |
17: 00
На данном этапе беспилотный летательный аппарат Airbus способен продержаться в воздухе не более 10-11 минут |
16: 40
Аналитики Gartner впервые зафиксировали сокращение рынка смартфонов |
16: 40
Беспроводные наушники Apple AirPods 2 выйдут в нынешнем году и не принесут значимых новшеств |
16: 40
Как делают автомобильные шины? |
16: 00
Любители торрентов оказались под угрозой взлома |
16: 00
Студенты не замечают депрессию у соседей по общежитию |
16: 00
Volvo представила универсал V60 нового поколения |
15: 00
Видеокарты Asus Cerebrus GeForce GTX 1050 и пара GTX 1050 Ti защищены металлическими пластинами с тыльной стороны |
15: 00
Доходы трех основных поставщиков серверной памяти DRAM в прошлом квартале выросли на 14% |
14: 40
Большая часть владельцев умных акустических систем не использует и половины возможностей этих устройств |
12: 20
В OpenBSD исправлена уязвимость Meltdown. Вышло стабильное обновление микрокода Intel |
12: 00
Цифра дня: Сколько получат победители чемпионата ВКонтакте по программированию? |
12: 00
У Минобороны появились засекреченные мобильники за 115 тыс руб |
11: 40
Есть ли жизнь на Марсе: насколько близки учёные к решению этого вопроса |
10: 20
Рынок принтеров, МФУ и копиров за год сократился на 1% |
10: 20
В России за предзаказ Meizu M6s подарят Pixelphone S1 |
10: 20
По прогнозу DSCC, рынок материалов OLED у 2022 году вырастет до 2,56 млрд долларов |
Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003