Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Главная > Новости бизнеса > Hi-Tech > Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Возможности литографии по нормам 32 нм остаются под вопросом

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

Вчера мы рассказывали об успехах компании IBM в деле освоения новых рубежей ультрафиолетовой иммерсионной литографии. Казалось бы, производители полупроводников получили надежду на то, что существующие технологии позволит им продержаться до подхода новых разработок. Однако не все так просто. Использование литографии все еще остается под большим вопросом, когда речь заходит о нормах 32 нм, освоение которых, по предварительным оценкам, ожидается в 2009 году. Источник рассказывает об опасениях, которыми вчера поделились эксперты бельгийской исследовательской организации IMEC на конференции SPIE Microlithography.
Дело в том, что в отрасли пока нет единого мнения, какая из разновидностей литографической технологии может быть использована при переходе к 32-нм процессу. Пока выбор обозначилось три технологии-кандидатки: ультрафиолетовая (EUV), 193-нм иммерсионная (использованная в разработке IBM) и технология с двойным экспонированием.
По мнению представителя IMEC, 193-нм иммерсионная технология и технология с двойным экспонированием являются "наименее рискованными". В своей лаборатории IMEC удалось с помощью 193-нм иммерсионной технологии изготовить элементы размером 40 нм. Использование иммерсионных жидкостей второго и третьего поколений с показателем преломления 1,65 и 1,8, теоретически, может обеспечить работу с нормами 32 нм. Как раз над созданием таких жидкостей и работают ученые.
Недостатки технологии с двойным экспонированием - повышенная стоимость, усложнение и удлинение производственного цикла.
Что касается EUV, то главными проблемами этой технологии являются разрешение и чувствительность фоторезиста, неоднородность краев линий. Кроме того, для EUV необходимы новые источники излучения. Срок жизни конденсора для EUV сейчас не превышает одного месяца. Ранее ожидалось, что к 2006 году удастся создать устройство, срок службы которого составит четыре года.
Могут ли такие трудности остановить стойких приверженцев EUV? По сведениям источника, оказавшись без соответствующего оборудования и материалов к намеченному ранее сроку, компания Intel отставила в сторону планы по внедрению EUV в серийном производстве по нормам 32 нм к 2009 году. Вместо этого, Intel теперь собирается сделать ставку на 193-нм литографию.
Источник: EE Times

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 401
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

17: 20
Оказывается, смартфоны Pixel 2 содержат процессор обработки изображений Pixel Visual Core собственной разработки Google |
17: 20
Samsung хочет адаптировать смартфоны для ношения на запястье |
17: 20
Apple может решить вопрос с дефицитом iPhone X в ближайшее время |
16: 40
BlackBerry испытала первый беспилотный автомобиль на основе платформы QNX |
16: 40
Как сделать автономный водяной насос, не требующий питания |
16: 20
Глава ЦИК предложила Навальному принять участие в выборах после 2028 года |
16: 20
В центре Серова ссора двух мужчин закончилась поножовщиной |
16: 00
Для роботов сделали мягкий камуфляж "под осьминога" |
16: 00
Lenovo обновит смартфоны семейства K8 до Android Oreo лишь летом следующего года |
14: 40
Дроны Project Wing занимаются доставкой буррито и лекарств в Австралии |
14: 40
Смартфоны Google Pixel 2 без подключения к Сети смогут определять лишь чуть более 17 000 музыкальных композиций |
14: 40
Блог. Наталья Калинина: «Кто гарантирует этим детям счастье?» |
14: 40
В Серове состоится заседание думской комиссии по ЭТС и ЖКХ. Live |
13: 40
Особенности графического дизайна Северной Кореи |
13: 00
Qualcomm впервые протестировал связь 5G на мобильных устройствах |
13: 00
Музыка в генах: Microsoft записала Deep Purple на ДНК |
13: 00
Смартфон OnePlus 5T представят 5 ноября |
13: 00
SoC Snapdragon 636 опережает по производительности Snapdragon 630 на 40% |
13: 00
Процент выхода годных компонентов для Apple iPhone X увеличивается |
12: 40
Для ядра Linux адаптированы правила GPLv3 в отношении отзыва лицензии |
12: 40
В 2020 году треть проданных смартфонов будет оснащена аппаратными блоками для работы с искусственным интеллектом |
12: 00
В США смартфоны Apple iPhone 7 пользуются большим спросом, чем iPhone 8 |
11: 40
«Времена, когда Apple не допускала ошибок, давно миновали» |
11: 20
HTC приглашает на презентацию нового смартфона |
11: 20
Хватит разоряться на ЖКХ. Советы iPhones.ru и Тинькофф |
11: 20
«Оводы» получили систему управления огнём |
11: 20
Названы цены и дата анонса объективов Olympus M.Zuiko Digital 17mm F1.2 Pro и 45mm F1.2 Pro |
11: 20
Новый моноблок iMac Pro с 10-ядерным процессором Xeon набирает более 35 000 баллов в Geekbench |
11: 00
Названа новая дата начала продаж смартфонов Motorola Moto X4 в Индии |
11: 00
Largan увеличила штат на 1000 человек и назвала средние ЗП |
10: 40
Закончился боксерский турнир «Кубок Константина Цзю». Семеро серовчан одержали уверенные победы |
Новости бизнесаСтатьиНоу ХауАналитикаДеньгиБизнес технологииКурс валют
Rating@Mail.ru
Условия размещения рекламы

Наша редакция

Обратная связь

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003