IBM разрабатывает 30 нм техпроцесс

Вторник, 21 февраля 2006 г.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e

В то время, как Intel уверенно производит огромные партии 65 нм микросхем и демонстрирует образцы 45 нм чипов, IBM прорывается в область 30 нм техпроцесса. Если быть точным, то даже 29.9 нм. Именно такого размера элементы позволяет создать новая технология литографии, разработанная IBM. Суть её заключается в том, что для "печати" элементов схемы используется лазер с длиной волны 193 нм, так называемый лазер дальнего ультрафиолета (deep-ultraviolet, DUV). Для создания опытных образцов 30 нм чипов использовалась собственная установка IBM и материалы её партнёра – калифорнийской компании JSR Micro. Для тестирования качества литографии IBM разработала систему NEMO, основанную на явлении интерференции между двумя DUV-лучами.



На фотографии изображены линии, отпечатанные при помощи разных техпроцессов: 30 нм слева и 90 нм справа.

В IBM считают, что разработанная ими технология как минимум на семь лет отодвинет необходимость в поиске альтернативных решений для создания микросхем. По крайней мере, 45 нм и 32 нм техпроцесс уже обеспечен всей необходимой производственно-технической базой, а для продвижение дальше к рубежу физических возможностей кристаллов кремния потребует уже разработок абсолютно новых технологий.

Следите за нами в ВКонтакте, Facebook'e и Twitter'e


Просмотров: 952
Рубрика: Hi-Tech
(CY)

Архив новостей / Экспорт новостей

Ещё новости по теме:

RosInvest.Com не несет ответственности за опубликованные материалы и комментарии пользователей. Возрастной цензор 16+.

Ответственность за высказанные, размещённую информацию и оценки, в рамках проекта RosInvest.Com, лежит полностью на лицах опубликовавших эти материалы. Использование материалов, допускается со ссылкой на сайт RosInvest.Com.

Skype: rosinvest.com (Русский, English, Zhōng wén).

Архивы новостей за: 2018, 2017, 2016, 2015, 2014, 2013, 2012, 2011, 2010, 2009, 2008, 2007, 2006, 2005, 2004, 2003

Rating@Mail.ru