Сложные наноустройства стали ближе
Команда ученных под руководством профессора Пола Нилея (Paul Nealey) из Университета Висконсин-Мэдисон модифицировали свою технологию производства наноустройств.
Приблизительно 2 года назад эта же команда продемонстрировала литографскую технику создания из полимерных материалов особых шаблонов для нанопроизводств. Исследователи нанесли пленку из блоков сополимеров на поверхность с химическим рельефом таким образом, что молекулы самостоятельно распределились так, чтобы повторить рельеф подложки.
"Прежняя технология позволила создавать упорядоченные наноструктуры, но такие естественно-сформированные структуры было сложно интегрировать в существующие нанопроизводства", - сказал Нилей. Теперь ученые разработали новую технологию, заключающуюся в том, что смешанные блоки сополимеров и гомополимеров собираются непосредственно на нанорельефной подложке. Таким образом, с одной стороны наночастицы собираются в структуры естественным образом, а с другой стороны весь процесс контролируется. В результате, частицы собираются в структуры с требуемой конфигурацией, даже если эта конфигурация не является регулярной.
Этот контроль очень важен для компьютерных производств, поскольку возможностей существующих методов уже скоро окажется недостаточно. Современные производственные процессы, использующие химически-усиленные методы литографии, работают с частицами размерами 50–70 нанометров, но предел технологии - 30 нанометров. Новая технология позволяет работать с частицами от 10 нанометров и меньше.
Приблизительно 2 года назад эта же команда продемонстрировала литографскую технику создания из полимерных материалов особых шаблонов для нанопроизводств. Исследователи нанесли пленку из блоков сополимеров на поверхность с химическим рельефом таким образом, что молекулы самостоятельно распределились так, чтобы повторить рельеф подложки.
"Прежняя технология позволила создавать упорядоченные наноструктуры, но такие естественно-сформированные структуры было сложно интегрировать в существующие нанопроизводства", - сказал Нилей. Теперь ученые разработали новую технологию, заключающуюся в том, что смешанные блоки сополимеров и гомополимеров собираются непосредственно на нанорельефной подложке. Таким образом, с одной стороны наночастицы собираются в структуры естественным образом, а с другой стороны весь процесс контролируется. В результате, частицы собираются в структуры с требуемой конфигурацией, даже если эта конфигурация не является регулярной.
Этот контроль очень важен для компьютерных производств, поскольку возможностей существующих методов уже скоро окажется недостаточно. Современные производственные процессы, использующие химически-усиленные методы литографии, работают с частицами размерами 50–70 нанометров, но предел технологии - 30 нанометров. Новая технология позволяет работать с частицами от 10 нанометров и меньше.
Ещё новости по теме:
18:20